Cov zaj duab xis nyias ntawm lub hom phiaj coated yog cov khoom siv tshwj xeeb zoo li.Nyob rau hauv cov kev taw qhia ntawm thickness, lub teev yog heev me me, uas yog ib tug microscopic ntsuas kom muaj nuj nqis.Tsis tas li ntawd, vim yog cov tsos thiab kev sib txuas ntawm cov yeeb yaj kiab tuab, cov khoom siv txuas ntxiv raug txiav, uas ua rau cov ntaub ntawv zaj duab xis thiab cov ntaub ntawv lub hom phiaj muaj cov khoom sib txawv.Thiab lub hom phiaj feem ntau yog siv cov magnetron sputtering txheej, Beijing Richmat's edither yuav coj peb kom nkag siab. lub hauv paus ntsiab lus thiab kev txawj ntse ntawm sputtering txheej.
Ib, Txoj Cai ntawm sputtering txheej
Sputtering txheej txuj ci yog siv ion shelling lub hom phiaj zoo li, lub hom phiaj atoms raug ntaus tawm ntawm qhov tshwm sim hu ua sputtering.Cov atoms tso rau ntawm qhov chaw ntawm lub substrate yog hu ua sputtering txheej. Feem ntau, cov roj ionization yog tsim los ntawm cov pa tawm, thiab cov ions zoo bombast lub cathode lub hom phiaj ntawm kev kub ceev nyob rau hauv qhov kev txiav txim ntawm hluav taws xob teb, tawm ntawm lub atoms los yog molecules ntawm lub cathode lub hom phiaj, thiab ya mus rau saum npoo ntawm lub substrate yuav tsum tau tso rau hauv ib zaj duab xis.Yam hais lus, sputtering txheej siv tsis tshua muaj siab inert roj glow tawm los tsim ions.
Feem ntau, cov khoom siv sputtering zaj duab xis plating yog nruab nrog ob lub electrodes hauv lub tshuab nqus tsev vacuum, thiab lub hom phiaj cathode yog tsim los ntawm cov ntaub ntawv txheej.Lub tshuab nqus tsev yog ntim nrog cov roj argon nrog lub siab ntawm 0.1 ~ 10Pa.Glow paug tshwm sim ntawm lub cathode nyob rau hauv qhov kev txiav txim ntawm qhov tsis zoo siab voltage ntawm 1 ~ 3kV dc los yog rf voltage ntawm 13.56mhz.Argon ions bombard lub hom phiaj nto thiab ua rau lub sputtered lub hom phiaj atoms mus rau hauv lub substrate.
ﺌ 、 Sputtering txheej txawj yam ntxwv
1 、 Fast stacking ceev
Qhov sib txawv ntawm qhov kev kub ceev magnetron sputtering electrode thiab cov tsoos ob theem sputtering electrode yog tias cov hlau nplaum yog teem rau hauv qab lub hom phiaj, yog li qhov kaw tsis sib luag magnetic teb tshwm sim nyob rau saum npoo ntawm lub hom phiaj.Lub lorentz quab yuam ntawm cov electrons yog ntawm qhov chaw. ntawm heterogeneous magnetic teb.Vim tias cov nyhuv tsom, cov electrons khiav tsawg dua.Lub heterogeneous magnetic teb mus nyob ib ncig ntawm lub hom phiaj nto, thiab lub thib ob electrons ntes nyob rau hauv lub heterogeneous magnetic teb collide nrog cov roj molecules dua, uas txhim kho lub siab conversion tus nqi ntawm cov roj molecules.Yog li ntawd, lub siab ceev magnetron sputtering siv tsawg zog, tab sis. tuaj yeem tau txais cov txheej txheem zoo, nrog rau cov yam ntxwv zoo tshaj plaws.
2 、 Lub substrate kub yog tsawg
Kev kub ceev magnetron sputtering, tseem hu ua low temperature sputtering.Yog vim li cas yog tias cov cuab yeej siv tawm hauv qhov chaw ntawm electromagnetic teb uas ncaj nraim rau ib leeg.Secondary electrons uas tshwm sim nyob rau sab nraud ntawm lub hom phiaj, nyob rau hauv ib leeg.Nyob rau hauv qhov kev txiav txim ntawm ib tug ncaj electromagnetic teb, nws yog khi nyob ze ntawm lub hom phiaj nto thiab txav raws txoj kev khiav nyob rau hauv ib tug ncig dov kab, rov khob tawm tsam cov roj molecules rau ionize cov roj molecules. Ua ke, cov electrons lawv tus kheej maj poob lawv lub zog, los ntawm rov ua pob, kom txog thaum lawv lub zog yuav luag tag ua ntej lawv tuaj yeem khiav tawm ntawm lub hom phiaj ze ntawm lub substrate.Vim tias lub zog ntawm cov hluav taws xob tsawg tsawg, qhov kub ntawm lub hom phiaj tsis nce siab dhau.Qhov ntawd yog qhov txaus los tiv thaiv qhov kub ntawm lub substrate uas tshwm sim los ntawm lub zog hluav taws xob hluav taws xob ntau ntawm kev txhaj tshuaj zoo tib yam diode, uas ua tiav cov txheej txheem cryogenization.
3 、 Ntau yam ntawm cov txheej txheem membrane
Cov qauv ntawm cov yeeb yaj kiab nyias tau txais los ntawm lub tshuab nqus tsev evaporation thiab kev txhaj tshuaj yog qhov sib txawv ntawm qhov tau los ntawm cov khoom tawg yooj yim.Nyob rau hauv sib piv rau cov feem ntau uas twb muaj lawm khib nyiab, uas yog cais raws li qhov tseem ceeb ntawm tib lub qauv nyob rau hauv peb qhov ntev, cov yeeb yaj duab tso rau hauv cov roj theem yog cais raws li heterogeneous structures.Cov zaj duab xis nyias yog columnar thiab tuaj yeem tshawb xyuas los ntawm scanning electron microscopy.Kev loj hlob ntawm columnar ntawm zaj duab xis yog tshwm sim los ntawm qhov qub convex nto ntawm lub substrate thiab ob peb ntxoov ntxoo hauv qhov tseem ceeb ntawm lub substrate.Txawm li cas los xij, cov duab thiab qhov loj ntawm cov kab sib txawv heev vim qhov kub thiab txias ntawm substrate, deg dispersion ntawm stacked atoms, faus ntawm impurity atoms thiab qhov teeb meem Lub kaum sab xis ntawm qhov teeb meem atoms txheeb ze rau lub substrate nto.Nyob rau hauv qhov ntau npaum li cas ntau ntau, daim nyias nyias muaj qauv, muaj cov qauv siab, muaj ntawm cov qauv sib txawv, uas yog cov qauv sib txawv ntawm cov yeeb yaj kiab sputtering.
Sputtering siab thiab zaj duab xis stacking ceev kuj cuam tshuam rau cov qauv ntawm zaj duab xis.Vim hais tias cov roj molecules muaj cov nyhuv ntawm suppressing dispersion ntawm atoms ntawm qhov chaw ntawm lub substrate, cov nyhuv ntawm high sputtering siab yog haum rau lub substrate kub poob nyob rau hauv cov qauv.Yog li ntawd, cov yeeb yaj kiab uas muaj cov nplej zoo tuaj yeem tau txais ntawm qhov siab sputtering.Cov yeeb yaj kiab me me no yog tsim rau lubrication, hnav tsis kam, tawv tawv thiab lwm yam kev siv tshuab.
4 、 Npaj muaj pes tsawg leeg
Compounds, mixs, alloys, thiab lwm yam, uas yog tsim nyog rau coated los ntawm lub tshuab nqus tsev vacuum evaporation vim lub vapor pressures ntawm lub Cheebtsam yog txawv los yog vim lawv txawv thaum rhuab.Sputtering txheej txheej txheem yog ua rau lub hom phiaj nto txheej ntawm atoms txheej los ntawm txheej. mus rau lub substrate, nyob rau hauv qhov kev nkag siab no yog ib tug zoo meej zaj duab xis kev txawj ntse.Txhua yam khoom siv tuaj yeem siv rau hauv kev tsim cov txheej txheem los ntawm sputtering.
Lub sij hawm xa tuaj: Plaub Hlis-29-2022